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一、設備信息：

l  型號：Quanta FEG 450

l  生產(chǎn)廠(chǎng)家：美國FEI公司

二、工作原理：

    由電子槍發(fā)射電子束，經(jīng)過(guò)一組磁透鏡聚焦，聚焦后，用遮蔽孔徑的方式選擇電子束的尺寸后，通過(guò)一組控制電子束的掃描線(xiàn)圈，再透過(guò)物鏡聚焦，打在樣品上，由訊號接收器擇取二次電子或背散射電子成像。

三、主要技術(shù)指標：

1.  分辨率

高真空模式：≤1.0nm@30kv(SE)、≤2.5nm@30kv(BSE)、≤3nm@1kv(SE);

低真空模式：≤1.4nm@30kv(SE)、≤2.5nm@30kv(BSE)、≤3nm@3kv(SE);

環(huán)境真空模式：≤1.4nm@30kv(SE)

2.  放大倍率/最大像數：10～10萬(wàn)/6144×4096

3.  電子槍?zhuān)?span lang="EN-US">Schottky場(chǎng)發(fā)射電子槍

4.  樣品室真空度：

高真空：優(yōu)于6×10-4Pa、

低真空：優(yōu)于10～130Pa、

環(huán)境真空：優(yōu)于10～4000Pa

四、主要功能：

1. 觀(guān)測樣品的微區形貌和結構；

2. 利用能譜儀可分析樣品的微區成分，對其表面物質(zhì)進(jìn)行定性和定量分析。

五、應用領(lǐng)域：

    可廣泛應用于水泥基材料、陶瓷材料、玻璃材料、復合材料、薄膜材料、金屬材料、生物材料等表面微觀(guān)形貌觀(guān)察及成分分析。

六、先進(jìn)性：