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高分辨三維X射線(xiàn)顯微成像系統

發(fā)布時(shí)間:2018-03-22

三維X射線(xiàn)顯微鏡Xradia 510 Versa

Xradia 510 Versa 充分發(fā)揮了X射線(xiàn)顯微鏡(XRM)的性能,能夠為各種不同的樣品和研究環(huán)境提供靈活的3D成像解決方案。Xradia 510 Versa 擁有高達 0.7 微米的真實(shí)空間分辨率,體素大小低至 70 納米。結合先進(jìn)的吸收襯度技術(shù)和適用于軟材料或低原子序數材料的創(chuàng )新相位襯度技術(shù),Xradia 510 Versa 的通用性得到提升,以至能夠突破傳統計算機斷層掃描方法的局限性。

性能超越微米CT,突破了過(guò)去科學(xué)研究中使用平板系統的局限。傳統斷層掃描依賴(lài)于單級幾何放大,而 Xradia Versa 依靠擁有在長(cháng)工作距離下優(yōu)化的分辨率、襯度和高分辨檢測系統,并采用了基于同步口徑光學(xué)元件的獨特的兩級放大技術(shù)。蔡司突破性的的大工作距離下的高分辨率(RaaD)特性,實(shí)現了在實(shí)驗室中對各種類(lèi)型和尺寸的樣品和多種應用進(jìn)行前所未有的探索。

材料科學(xué)

應用范圍廣,從軟質(zhì)復合材料內的裂縫成像到鋼鐵孔隙度測量,都只需要用一個(gè)系統就能完成。通過(guò)改變條件如拉伸、壓縮、氣體、氧化性、潤濕性及溫度變化下的成像進(jìn)行原位研究。還可以對與真空和帶電離子束不相容的材料進(jìn)行成像。

Xradia 510 Versa 提供光學(xué)顯微鏡,SEM 和 AFM 等二維表面成像方法無(wú)法觀(guān)察到的深層次微結構。進(jìn)行長(cháng)距離原位成像實(shí)驗時(shí),仍能保持高分辨率,使用各種原位設備可以讓您研究多種樣品尺寸和形狀。了解在無(wú)損X射線(xiàn)環(huán)境下改變條件隨時(shí)間變化的影響。

原材料

表征和定量分析孔隙結構和連通性、了解孔隙度和滲透率、礦物解離分析效率,研究?jì)μ歼^(guò)程的有效性。執行原位多相流研究。通過(guò)研究材料在不同條件和時(shí)間下的效應,體驗顯微組織最準確的 3D 亞微米成像。

生命科學(xué)研究

通過(guò)高分辨率和高襯度對染色和未染色的軟硬組織進(jìn)行探索。定量分析骨形態(tài)學(xué)中骨細胞的屬性,映射神經(jīng)網(wǎng)絡(luò ),血管的研究,并了解生物結構的發(fā)展。

電子學(xué)

優(yōu)化流程和分析故障。使用無(wú)損亞微米成像對完好封裝組件的缺陷進(jìn)行定位和表征,并進(jìn)行三維測量。Xradia Versa提供了業(yè)界領(lǐng)先的分辨率的3D亞微米成像無(wú)損解決方案,補充或取代了物理橫切法。

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